• Ultra-hoge zuiverheid: Met een oppervlakteafwerking van 10 Ra micro-inch / 0,25 micron om gasverontreiniging te elimineren, waardoor de naleving van de vereisten voor halfgeleiders, farmaceutische en onderzoeksniveau wordt gewaarborgd.
• Hoge gevoeligheid: Fijn afgestemde aanpassingen maken een precieze drukregulatie mogelijk, die cruciaal is voor toepassingen zoals analytische instrumenten en gaschromatografie.
• Lagedrukdaling: Vermindert het energieverbruik en de slijtage van het systeem, waardoor de algehele efficiëntie in processen met een hoge doorstroming wordt verbeterd.
• Duurzaamheid: Gebouwd met 316L roestvrij staal en optionele Hastelloy®-klepinternen voor corrosiebestendigheid in agressieve media.

• Beheersing van druk: Inlaat tot 3500 psig/241 bar; uitlaat verstelbaar tot 150 psig/10,3 bar.
• Leakresistentie: UL-rated laag lek (<10−7 mbar·L/s helium) voor gevaarlijke of dure gassen.
• Temperatuurbereik: -40°C tot 71°C (-40°F tot 160°F) met Teflon PFA stoelen.

• Vervaardiging van halfgeleiders: Distributie van gas in cleanrooms en waferfabricage.
• Laboratoriumapparatuur: Massaspectrometrie, lasersystemen en gasanalyse.
• Industrieel gasbeheer: cilinderkasten, klepdozen en speciale gasvoorziening.

• Verscheidenheid: geschikt voor corrosieve gassen (bijv. NH3, Cl2) en inerte media met aanpasbare configuraties.
• Veiligheid: Het statisch-dissipatieve ontwerp minimaliseert de ontstekingsrisico's voor piroforische gassen.
• Naleving: Voldoet aan de USP-klasse VI, BPE en ISO 17025-normen voor biofarmaceutische en analytische workflows.

64-3600 Referentie voor het productmonster van de TESCOM-regelaarserie voor hoge gevoeligheid